| 发明名称 |
DIFFUSION TREATING METHOD FOR SEMICONDUCTOR WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS57126127(A) |
申请公布日期 |
1982.08.05 |
| 申请号 |
JP19810010580 |
申请日期 |
1981.01.27 |
| 申请人 |
TOKYO SHIBAURA DENKI KK |
发明人 |
NAKADA KIMIO;TANIGUCHI HITOSHI |
| 分类号 |
F02M25/08;H01L21/22;(IPC1-7):H01L21/22 |
主分类号 |
F02M25/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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