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经营范围
发明名称
RESIST PROTECTIVE FILM MATERIAL AND PATTERN FORMATION METHOD
摘要
申请公布号
KR20070042084(A)
申请公布日期
2007.04.20
申请号
KR20060100220
申请日期
2006.10.16
申请人
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人
HATAKEYAMA JUN;HARADA YUJI
分类号
G03F7/11;G03F7/09
主分类号
G03F7/11
代理机构
代理人
主权项
地址
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