| 摘要 |
一种STI沟槽衬层之修饰方法，根据上述方法，一基底系进行蚀刻，以形成一STI沟槽，且一线氧化层系藉由氧化技术形成于沟槽表面，此方法更包括在形成线氧化层之前，使用含氮气体预处理沟槽表面；在线氧化层形成之后进行氮化线氧化层；或是在形成线氧化层之前使用含氮气体预处理沟槽表面，且在线氧化层形成之后进行氮化线氧化层。根据本发明之衬层修饰方法，其可最佳化STI结构之反转窄宽度效应(inverse narrowwidth effect，INWE)和闸极氧化完整性(gate oxide intergrity，GOI)，且防止杂质在后续制程中扩散入线氧化层。 |
