图案化结构的制造方法

摘要

一种图案化结构之制造方法，首先，提供一基底，然后铺设一堆叠结构于该基底上，其中该堆叠至少组成依序为一目标层及一衬层；接着，执行微影制程，铺设光阻于该堆叠结构上，形成复数个光阻单体，藉此，在该目标层上产生复数个凹陷处开口，并暴露出该目标层之部份表面；施加一离子植入制程于该目标层之部份表面，定义该目标层中有掺杂区；执行一定义制程，暴露出该基底之部份表面；最后，执行蚀刻程序，利用该掺杂区当作硬遮罩(Hard Mask)，选择性蚀刻一部份之该基底，至一深度，形成一种图案化结构。