| 主权项 |
1.一种制造光碟原盘的方法,此原盘在其表面上具有突起/凹下的图案,包含以下步骤:在一基底上涂敷一光阻层,将此光阻层曝光以形成此突起/凹下图案的潜影,将此潜影予以显影,及在曝光步骤之前或在曝光步骤与显影步骤之间以表面活化剂处理此光阻层。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中该表面活化剂是非离子表面活化剂。3.根据申请专利范围第1项之方法,其中以表面活化剂处理光阻层的步骤使用具有重量百分率0.1到10%的表面活化剂溶液。4.根据申请专利范围第1项之方法,其中曝光步骤是将光阻层曝光至D1的放射剂量,而满足以下的关系;1.1≦D1/D0≦2,其中Do是当不包括处理步骤时,用于光阻层的最佳曝光剂量。5.根据申请专利范围第1项之方法,其中以表面活化剂处理光阻层的步骤包括藉由旋转冲洗或浸泡将表面活化剂溶液与光阻层接触。图式简单说明:图1说明根据本发明制造光碟原盘及制造模子原盘的一系列步骤。图2是一显示沟纹宽度对沟纹深度之图形。图3是一显示相对沟纹深度对曝光剂量之图形。图4是一显示相对沟纹深度对曝光剂量之图形。图5是一显示相对沟纹深度对曝光剂量之图形。 |
