发明名称 电浆处理装置
摘要 本发明是一种电浆处理装置,其系具有一使用电浆而对被处理体进行膜堆积与蚀刻处理之室,并安装有闸衬垫,以覆盖住设于室上且用以搬入及搬出被处理体的室闸开口部表面,俾防止受到电浆所产生之作用的影响。又,依照在前述室内之阳极领域与阴极领域之面积比,也就是阳极/阴极比,来决定室闸开口部之深度与其短距离方向长度之比,也就是闸长宽比,以防止在闸空间内发生异常放电。
申请公布号 TWI223340 申请公布日期 2004.11.01
申请号 TW089117811 申请日期 2000.08.31
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 大薮 淳
分类号 H01L21/302 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种电浆处理装置,其包含有:一室,其内部可保持在真空状态,且可用以对被处理体施以电浆处理者;一排气机构,系用以将前述室内之气体排出而使该室成真空状态者;一气体导入机构,系用以将处理气体导入前述室内;一下部电极,系用以支撑被处理体者;一上部电极,系与前述下部电极相对向地设置者;一电源,系设置于前述室外,用以施加电力于前述电极俾在前述室内形成处理气体之电浆;一闸开口部,系设置于前述室,用以搬入及搬出前述被处理体;及闸阀,系用以堵塞该闸开口部俾使其呈密闭状及打开该闸开口部者;而,由前述室闸之开口深度与在该开口中之短距离方向长度之比所形成之闸长宽比,系依照在前述室内阳极部分之面积与阴极部分之面积所形成之阳极/阴极比来决定,以防止在闸空间内之异常放电。2.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其中前述闸长宽比为1.5以下者。3.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其更具有一闸衬垫,该闸衬垫系可以自由装卸地设置以覆盖前述闸开口部之侧壁表面,且在进行前述电浆处理时可以防止受到电浆所产生之作用的影响。4.如申请专利范围第3项之电浆处理装置,其中前述闸衬垫系由金属所构成者。5.如申请专利范围第3项之电浆处理装置,其中前述闸衬垫之表面系由耐酸铝加工而成之铝所构成者。6.如申请专利范围第3项之电浆处理装置,其中前述闸衬垫系由陶磁所构成者。7.如申请专利范围第3项之电浆处理装置,其中前述闸衬垫系施以使表面粗糙的表面加工。8.如申请专利范围第3项之电浆处理装置,其中前述闸衬垫系进行配合电浆空气的温度管理。9.如申请专利范围第3项之电浆处理装置,其中前述闸衬垫系以与闸衬垫相同材料之螺栓来固定。10.如申请专利范围第3项之电浆处理装置,其中前述闸衬垫系藉由前述螺栓螺止以使其表面平坦化。11.如申请专利范围第3项之电浆处理装置,其中前述闸衬垫系为嵌入前述闸开口部之侧壁表面的方式。图式简单说明:第1图系一概略截面图,用以例示本发明第1实施态样之电浆处理装置。第2图系一概略截面图,用以例示本发明第2实施态样之电浆处理装置。第3图系第2实施态样之电浆处理装置中所示室闸之构造图。第4图系例示配置闸衬垫之室闸的构造图。第5图系一概略截面图,用以例示于本发明第1实施态样之电浆处理装置中追加波纹管环后之构造。第6图为表示根据阳极/阴极比与闸长宽比之关系来整理闸空间是否有无异常放电之图。
地址 日本