METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

摘要

안정된 전기 특성을 갖는 박막 트랜지스터를 포함하는 신뢰성이 높은 반도체 장치를 제공하는 것이 목적이다. 높은 양산성과 저비용으로 신뢰성이 높은 반도체 장치를 제조하는 것이 또 다른 목적이다. 채널 형성 영역과 소스 영역 및 드레인 영역을 갖는 반도체층이 산화물 반도체층을 이용하여 형성되는 박막 트랜지스터를 포함하는 반도체 장치의 제조 방법에 있어서, 산화물 반도체층의 순도를 개선하고 수분과 같은 불순물을 저감하는 열 처리(탈수화 또는 탈수소화를 위한 열 처리)가 수행된다. 게다가, 열 처리가 수행된 산화물 반도체층은 산소 분위기하에서 서랭된다.