发明名称 HALFTONE PHASE SHIFT MASK USING DESTRUCTIVE INTERFERENCE EFFECT AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
摘要 빛의 상쇄 간섭 효과를 이용하여 위상반전 물질층만으로 블라인더 효과를 도모함으로써 마스크 제조 공정의 단순화로 생산 수율을 향상시킬 수 있는 상쇄 간섭 효과를 이용한 하프톤 위상반전 마스크 및 그 제조 방법에 대하여 개시한다. 본 발명에 따른 상쇄 간섭 효과를 이용한 하프톤 위상반전 마스크는 매트릭스 형태로 서로 이격 배치되며, 각각 광이 투과되는 투과 영역 및 광의 투과율이 조절되는 위상반전 영역을 구비하는 복수의 활성 영역과, 상기 복수의 활성 영역의 외측에 배치되는 블라인드 영역을 갖는 투명 기판; 상기 투명 기판 상의 위상반전 영역에 형성되어, 입사광의 투과율을 조절하는 위상반전 패턴; 및 상기 투명 기판의 블라인드 영역에 위상반전 패턴과 동종 재질로 동일한 두께로 형성되어, 복수개가 상호 이격 배치되는 홀 어레이 패턴;을 포함하되, 상기 위상반전 패턴과 홀 어레이 패턴은 하기 식 1 및 식 2를 만족하는 범위로 형성된 것을 특징으로 한다. 식 1 : 해상도 공식에서 k1 = 0.25 미만의 패턴 크기 식 2 : 투과 영역을 통과하는 빛의 양이 패널에 입사되는 빛의 양 = 위상반전 패턴을 투과하는 빛이 패널에 입사되는 빛의 양
申请公布号 KR101653879(B1) 申请公布日期 2016.09.05
申请号 KR20140155960 申请日期 2014.11.11
申请人 주식회사 피케이엘 发明人 김명용;허익범;최상수
分类号 G03F1/34;G03F1/50 主分类号 G03F1/34
代理机构 代理人
主权项
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