| 主权项 |
1.一种改良之近场光学飞行头,可用以对光碟片进行近场光学记录(near-field recording),其包含有:一承载台,可维持于该光碟片表面之近场距离(near-field distance);一固态浸没式镜片(SIL),设于该承载台之对应该光碟片一端,概呈半球体,具有一切平之折射面,且以该折射面朝向该光碟片;以及一聚焦镜片,设于该承载台,位在该固态浸没式镜片内侧,用以将雷射光聚焦至该固态浸没式镜片上,使部份电磁波穿透该折射面,对该光碟片进行近场曝光;其特征在于:该固态浸没式镜片之折射面外侧镀有一光散射层(light scattering layer),该光散射层获得该雷射光之光能或热能时,可经由化学反应分解出银原子,该银原子可增加通过该折射面之电磁波,相当于开启一微小之光学孔穴供电磁波通过,又,当前述光能或热能消除时,该光散射层可还原为原化合物;该光散射层之外侧面又镀有一介电层(dielectric layer),可防止该光散射层进行前述化学反应时所分解出之气体逸散至外界。2.依据申请专利范围第1项所述之改良之近场光学飞行头,其中:该光散射层之材料系氧化银(AgOx),获得热能时可分解出银原子。3.依据申请专利范围第1项所述之改良之近场光学飞行头,其中:该光散射层之材料系卤化银(AgX)化合物,亦即可为氟化银(AgF)、氯化银(AgCl)、溴化银(AgBr)、碘化银(AgI)或 化银(AgAt)其中之一,获得光能时可分解出银原子。4.依据申请专利范围第1项所述之改良之近场光学飞行头,其中:该光散射层系覆盖该固态浸没式镜片之折射面全部面积。5.依据申请专利范围第1项所述之改良之近场光学飞行头,其中:该光散射层系仅占布该固态浸没式镜片之折射面中央部份。6.一种改良之近场光学飞行头,可用以对光碟片进行近场光学记录,其包含有:一承载台,可维持于该光碟片表面之近场距离;一固态浸没式镜片,设于该承载台之对应该光碟片一端,概呈半球体,具有一切平之折射面,且以该折射面朝向该光碟片;以及一聚焦镜片,设于该承载台,位在该固态浸没式镜片内侧,用以将雷射光聚焦至该固态浸没式镜片上,使部份电磁波穿透该折射面,对该光碟片进行近场曝光;其特征在于:该固态浸没式镜片之折射面外侧镀有一遮罩层(mask layer),前述雷射光射入该遮罩层时所产生之热能,可改变该遮罩层之折射率,使聚焦处开启一微小孔穴供该电磁波通过;该光散射层之外侧面又镀有一介电层。7.依据申请专利范围第6项所述之改良之近场光学飞行头,其中:该遮罩层之材料系铟(In)、碲(Te)或锑(Sb)其中之一。8.依据申请专利范围第6项所述之改良之近场光学飞行头,其中:该遮罩层系覆盖该固态浸没式镜片之折射面全部面积。9.依据申请专利范围第6项所述之改良之近场光学飞行头,其中:该遮罩层系仅占布该固态浸没式镜片之折射面中央部份。10.依据申请专利范围第1或第6项所述之改良之近场光学飞行头,其中:该介电层之材料系氮化矽(Si3N4)或硫化锌-二氧化矽(ZnS-SiO2)。图式简单说明:第一图系习用之近场光学飞行头之结构示意图;第二图系本创作第一较佳实施例之结构示意图;以及第三图系本创作第二较佳实施例之结构示意图。 |
