| 摘要 |
리소그래피에서 사용되기 위한 검사 장치가 개시된다. 검사 장치는, 복수 개의 계측 타겟을 포함하는 기판용 지지대; 선결정된 조명 상태에서 타겟을 조명하고, 선결정된 조명 상태에서 타겟에 의하여 회절된 방사선의 선결정된 부분을 검출하기 위한 광학계; 회절된 방사선의 상기 검출된 부분으로부터 특정 타겟에 대한 비대칭의 측정을 계산하도록 구성되는 프로세서; 및 광학계 및 프로세서가, 상기 기판 상의 층 내에서 구조체와 더 작은 서브-구조체 사이의 위치 오프셋의 상이한 기지 컴포넌트(known component)를 가지는, 상기 타겟 중 적어도 두 개의 타겟에서 비대칭을 측정하게 하고, 상기 비대칭의 측정의 결과로부터 상기 더 작은 크기의 구조체에 대한 리소그래피 프로세스의 성능 파라미터의 측정을 계산하게 하는, 제어기를 포함한다. 또한, 리소그래피 프로세스에 의하여 형성된 복수 개의 신규한 계측 타겟이 제공되는 기판들이 개시된다. |
