INSPECTION OF REGIONS OF INTEREST USING AN ELECTRON BEAM SYSTEM

摘要

하나 이상의 하전 입자 빔을 이용하여 기판의 복수의 관심 영역을 주사하기 위한 시스템이 개시되는데, 이 시스템은 하전 입자 광학계를 갖는 조사 모듈; 기판과 하전 입자 광학계 사이에 상대 이동을 도입하기 위한 스테이지; 및 하나 이상의 하전 입자 빔에 의한 관심 영역들의 주사에 응답하여 기판으로부터 나오는 전자들을 수집하기 위한 이미징 모듈을 포함하고, 하전 입자 광학계는 관심 영역들의 주사 동안 하전 입자 빔의 대항 이동을 수행함으로써 관심 영역들의 주사 동안 기판과 하전 입자 광학계 사이에 도입되는 상대 이동들에 대항하도록 배열된다.