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发明名称 Sylfonyloximer til i-linie-fotoresists med høj følsomhed og høj resisttykkelse
摘要
申请公布号 DK109899(A) 申请公布日期 2000.02.19
申请号 DK19990001098 申请日期 1999.08.05
申请人 CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC. 发明人 ASAKURA, TOSHIKAGE;BLEIER, HARTMUT;LEO, CHRISTOPH DE
分类号 H01L21/027;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;(IPC1-7):G03F7/004 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
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