发明名称 Method of plasma chemical vapor deposition of layer with improved interface.
摘要
申请公布号 EP0630989(A3) 申请公布日期 1996.01.03
申请号 EP19940109547 申请日期 1994.06.21
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 ROBERTSON, ROBERT;KOLLRACK, MARC MICHAEL;LEE, ANGELA T.;TAKEHARA, TAKAKO;FENG, GUOFU JEFF;CONNOLLY, ROBERT;LAW, KAM;MAYDAN, DAN
分类号 H01L21/302;C23C16/02;C23C16/509;H01L21/205;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):C23C16/44;C23C16/50 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
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