| 发明名称 |
ELECTRON BEAM DRAWING SYSTEM AND ITS METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10163081(A) |
申请公布日期 |
1998.06.19 |
| 申请号 |
JP19960318998 |
申请日期 |
1996.11.29 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
NAGATA KOJI;TAKAHASHI HIROYUKI;OTA HIROYA;SATO HIDETOSHI;SAITO NORIO |
| 分类号 |
H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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