发明名称 |
膜图案之形成方法、元件及其制造方法、光电装置以及电子机器 |
摘要 |
本发明系提供一种能以良好精度稳定形成谋求微细化与细线化之膜图案之薄膜图案之形成方法。本发明之膜图案之形成方法包含:于基板P上形成堤岸B之步骤;于藉由堤岸B所划分之区域配置机能液L之步骤;与使基板P上所配置之机能液L乾燥而形成膜图案F之步骤。堤岸B系藉由于基板P上形成含有堤岸形成材料之薄膜B0,并于其表面实施拨液处理后,加以图案化而形成。藉此,由于变成仅堤岸B之顶面经过拨液化,堤岸B之侧面系未经过液化之状态(对于机能液L湿润性良好之状态),因此,配置机能液L时,能使其顺利地于堤岸间湿润扩散。 |
申请公布号 |
TW200630760 |
申请公布日期 |
2006.09.01 |
申请号 |
TW095102469 |
申请日期 |
2006.01.23 |
申请人 |
精工爱普生股份有限公司 |
发明人 |
守屋克之;平井利充 |
分类号 |
G03F7/38;G03F7/075;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/38 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
日本 |