使用光罩护膜以图案化一层之方法

摘要

本发明揭示一种用以在一半导体基板(189)上图案化一层之方法(30)，其包含形成一层半导体基板以及将该层暴露在光(181)中。该光行进通过一藉由一种方法制造之第二光罩护膜(185)，该方法包含决定(32)一第一光透过一第一光罩护膜之一第一透射，其中该第一光系正交于该第一光罩护膜，决定(34)一第二光透过该第一光罩护膜之一第二透射，其中该第二光系非正交于该第一光罩护膜，以及使用该等第一及第二透射修改(36)该第一光罩护膜以形成一第二光罩护膜。