| 摘要 |
一种堆叠式电容器的制造方法，系于基材上形成有介电层。介电层上形成有蚀刻终止层。蚀刻终止层为多晶矽(Poly-silicon)，其上形成有复数柱状物。再于蚀刻终止层上形成下电极材料层(多晶矽)，并覆盖柱状物。下电极材料层形成后，可使用蚀刻方式去除位于柱状物顶部的部分下电极材料层，以及位于相邻柱状物间部分的下电极材料层以及部分的蚀刻终止层，藉此，于每一柱状物的周缘以及下部形成下电极。将位于下电极内部的柱状物去除，即形成冠状(Crown)的下电极。于下电极上覆盖绝缘层，在于绝缘层上覆盖上电极，以形成一电容器结构。 |
