| 发明名称 |
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING COMPOSITION AND METHODS RELATING THERETO |
| 摘要 |
본 발명은 물; 평균 입경이 ≤50 nm인 콜로이드상 실리카 연마 입자 1 내지 40 wt%; 및 사차 암모늄 화합물 0 내지 5 wt%를 포함하고, 산화제 및 킬레이트제를 함유하지 않으며, pH가 ＞6 내지 12인 화학 기계 연마 조성물을 사용하여, 게르마늄-안티몬-텔루르 칼코게나이드 상변화 합금을 포함하는 기판을 화학 기계 연마하는 방법을 제공한다. |
| 申请公布号 |
KR101655790(B1) |
申请公布日期 |
2016.09.08 |
| 申请号 |
KR20090105468 |
申请日期 |
2009.11.03 |
| 申请人 |
롬 앤드 하스 일렉트로닉 머티리얼스 씨엠피 홀딩스 인코포레이티드 |
发明人 |
류 전둥 |
| 分类号 |
C09G1/02;C09K3/14;H01L21/304;H01L21/321;H01L45/00 |
主分类号 |
C09G1/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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