| 摘要 |
<P>L'INVENTION CONCERNE UN PROCEDE DE FORMATION SELECTIVE D'UN FILM DEPOSE SUR UN SUBSTRAT.</P><P>IL CONSISTE A FORMER SELECTIVEMENT UN FILM DEPOSE SUIVANT UN DESSIN SOUHAITE SUR UNE SURFACE DE DEPOSITION COMPRENANT PLUSIEURS MATIERES DE TYPES DIFFERENTS, FACONNEES DE FACON CORRESPONDANTE AU DESSIN, ET PRESENTANT DES DENSITES DE FORMATION DE GERMES DIFFERENTES POUR LA MATIERE DEPOSEE FORMANT LE FILM.</P><P>DOMAINE D'APPLICATION: FABRICATION DE CIRCUITS INTEGRES, ETC.</P>
|
