发明名称 |
ROTATABLE SUBSTRATE SUPPORTING MECHANISM WITH TEMPERATURE SENSING DEVICE FOR USE IN CHEMICAL VAPOR DEPOSITION EQUIPMENT |
摘要 |
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申请公布号 |
EP0353254(A4) |
申请公布日期 |
1991.03.13 |
申请号 |
EP19880904757 |
申请日期 |
1988.03.30 |
申请人 |
EPSILON TECHNOLOGY, INC. |
发明人 |
DE BOER, WIEBE;OZIAS, ALBERT, E. |
分类号 |
C23C16/44;B05C11/08;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/46;H01L21/00;H01L21/205;H01L21/31;H01L21/68;H01L21/687;(IPC1-7):B65G11/00;B05C11/00 |
主分类号 |
C23C16/44 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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