发明名称 具有一止推轴环板含有平面及平行周围相对表面延伸超过一欧丹环之螺形流体压缩装置
摘要 螺形压缩装置之一止推环板支持该装置之可移动蜗旋构件,并具有平坦及平行圆周相反表面延伸于支承框架中之一欧丹环上,用以支承由可移动蜗旋构件及固定蜗旋构件之压缩作用所发生之推压力,从而防止可移动蜗旋构件在垂直于可移动蜗旋构件之稳之轨道运动。
申请公布号 TW227771 申请公布日期 1994.08.01
申请号 TW082208258 申请日期 1992.01.13
申请人 东芝股份有限公司 发明人 川边功
分类号 F04C7/00 主分类号 F04C7/00
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1﹒一种螺形流体压缩装置,包含:一外壳;一支承框架,受支持于外壳中,该支承框架具有一表面,该表面界定一圆筒形凹口;一环,具有一对第一键各在相对位置并自其表面之一上伸出,及一对第二键各在与第一对键成直角之位置并自其另一表面上伸出,该环置于圆筒形凹口中,并可沿连接于该对第一键间之一线上往复移动一环形止推板,置于圆筒形凹口中,并具有平坦及平行圆周相反表面延伸于凹口中之该环上,止推板具有一对孔,该对第二键分别伸出穿过该对孔:一压缩单位,由支承框架支持,用以压缩气态流体,该压缩单位具有一可移动蜗旋构件装于正推板上,可移动蜗旋构件具有一对槽,该对第二键之伸出端分别插进该对槽中;及一驱动单位,包含一偏心旋转轴,在机械上连接至可移动蜗旋构件,用以由该环在往复方向上之运动而使可移动蜗旋构件发生轨道运动。2﹒如申请专利范围第1项所述之装置,其中,该支承框架含有一对引导凹口,当偏心旋轴旋转时,该对第一键沿该对引导凹口中往复移动。3﹒如申请专利范围第2项所述之装置,其中,该止推板含有一圆形槽,该槽与构制于其中之该对孔相通,用以容纳该环。4﹒如申请专利范围第2项所述之装置,其中,该支承框架包含一圆形槽,该槽与该对引导凹口相通,用以容纳该环。5﹒如申请专利范围第2项所述之装置,其中,止推板包含一第一圆形槽,及支承框架包含一第二圆形槽面对第一圆形槽,用以容纳该环,第一圆形槽与构制于止推板中之该对孔相通,第二圆形槽与该对引导凹口相通。图示简单说明:图l(a)为平面图,显示止推环板及欧丹环之普通安排之一例;图l(b)为平面图,显示止推环板及欧丹环之普通安排之另一例;图2为纵断面图,显示本创作之一实施例之蜗旋式流体压缩装置之一部份:图3为图2所示蜗旋式流体压缩装置中所用之欧丹环之一例之断面图;图4为放大断面图,显示图2所示之可移动蜗旋构件之端板,止推环板,及欧丹环之相互关系;
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