发明名称 承座及其制造方法以及具有该承座的化学气相沉积装置
摘要 本发明是一种承座及其制造方法以及具有该承座的化学气相沉积装置,此承座包括承座主体、第一粗糙面以及第二粗糙面。承座主体是是由金属材料构成。第一粗糙面形成第一粗糙图案,并位于承座主体的表面上。第二粗糙面形成第二粗糙图案,并位于承座主体的第一粗糙面上。第二粗糙面的宽度与深度是相对小于第一粗糙面的所述的第一粗糙图案的宽度与深度,而负载在承座上的玻璃基板实质上接触第二粗糙面,且玻璃基板是用于平面显示器。在沉积制程的过程中,热可有效传导至玻璃基板,并可减少电弧放电的产生以及对于玻璃基板背面的损坏。在完成沉积制程后,玻璃基板与承座可相互平稳分离,以避免玻璃基板损坏,可对玻璃基板进行高信赖度的沉积制程。
申请公布号 CN101353786A 申请公布日期 2009.01.28
申请号 CN200810130759.6 申请日期 2008.07.17
申请人 SFA股份有限公司 发明人 张哲钟;李相琝
分类号 C23C16/458(2006.01);H01L21/687(2006.01);G02F1/1333(2006.01) 主分类号 C23C16/458(2006.01)
代理机构 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 代理人 孙皓晨
主权项 1.一种承座,适于承载一玻璃基板,所述的玻璃基板是用于制造一平面显示器,其特征在于,所述的承座包括:一承座主体,是由一金属材料构成;一第一粗糙面,形成有一第一粗糙图案,所述的第一粗糙面并位于所述的承座主体的表面上;以及一第二粗糙面,形成有一第二粗糙图案,所述的第二粗糙面并位于所述的承座主体的所述的第一粗糙面上,所述的第二粗糙面的宽度与深度是相对小于所述的第一粗糙面的所述的第一粗糙图案的宽度与深度,而负载在所述的承座上的所述的玻璃基板实质上接触所述的第二粗糙面。
地址 韩国忠清南道
您可能感兴趣的专利