| 摘要 |
La présente invention concerne un procédé de gravure chimique d'un matériau de dioxyde de silicium, tel que le quartz, qui met en œuvre des ions fluorure et un polymère fluoré. Ce procédé de gravure peut être utilisé notamment dans la fabrication d'oscillateurs à quartz destinés à être intégrés dans toutes sortes d'appareils électroniques tels que des appareils d'horlogerie, des gyroscopes ou des pacemakers. |
