| 摘要 |
EUV 투영 리소그래피를 위한 조명시스템은 싱크로트론 방사선 기반 광원(2)의 EUV 로 빔(4)으로부터 EUV 집광 출력 빔(7)을 생성하기 위한 빔 성형 광학 유닛(6)을 갖는다. 출력 결합 광학 유닛(8)은 EUV 집광 출력 빔(7)으로부터 복수의 EUV 개별 출력 빔(9)을 생성하는 역할을 한다. 각각의 경우에, 빔 안내 광학 유닛 (10)은 리소그래피 마스크(12)가 배치될 수 있는 오브젝트 필드(11)를 향하여 각각의 EUV 개별 출력 빔(9)을 가이드하기 위한 역할을 한다. 이 결과는 싱크로트론 방사선 기반 광원의 EUV 광이 손실없이 동시에 유연하게 가능한 가장 최대치로 가이드되는 조명 시스템이다. |
