| 发明名称 |
Apparatus and method for inspecting a reticle for color centers |
| 摘要 |
A reticle is inspected for color center defects by using excimer laser used for pattern transfer to a wafer to cause fluoresence of the color centers.
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| 申请公布号 |
US5581089(A) |
申请公布日期 |
1996.12.03 |
| 申请号 |
US19940300451 |
申请日期 |
1994.09.02 |
| 申请人 |
CANON KABUSHIKI KAISHA |
发明人 |
KOHNO, MICHIO |
| 分类号 |
G01N21/88;G01N21/94;G01N21/956;G06T1/00;(IPC1-7):G01N21/64 |
主分类号 |
G01N21/88 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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