处理系统及其电浆产生装置

摘要

一种处理系统，利用一第一流体对于一物件进行处理。处理系统包括一基座与一电浆产生装置。基座系用以承载物件。电浆产生装置系用以对于第一流体进行离子化。电浆产生装置包括至少一导引元件与至少一电极元件。导引元件包括一路径，第一流体沿着路径依序通过一第一位置与一第二位置。电极元件包括一第一电极与一第二电极，在第一电极相对于第一位置、第二电极相对于第二位置之下，第一电极、第二电极对于第一位置与第二位置之间的第一流体进行激能后形成了一第二流体，第二流体系对于基座上之物件进行表面处理、活化、清洁、光阻灰化或蚀刻处理。