发明名称 |
透明导电膜用蚀刻液组成物 |
摘要 |
明之课题系提供一种不会对电极材料等所使用之铜及/或铜合金造成损伤又能够蚀刻结晶质ITO膜之透明导电膜用蚀刻液组成物。
本发明之解决手段系一种由包括1~10重量%的氟化合物之水溶液所构成之结晶质透明导电膜用蚀刻液组成物。
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申请公布号 |
TWI534248 |
申请公布日期 |
2016.05.21 |
申请号 |
TW101112809 |
申请日期 |
2012.04.11 |
申请人 |
关东化学股份有限公司 |
发明人 |
山口隆雄;石川典夫 |
分类号 |
C09K13/08(2006.01);H01L21/306(2006.01) |
主分类号 |
C09K13/08(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
庄志强 |
主权项 |
一种结晶质透明导电膜用蚀刻液组成物,其系由含有1~10重量%的氟化合物之水溶液所构成,前述氟化合物系含有选自氟化氢、氟化铵、氟化钠、氟化钾、氟化氢铵、氟化氢钠、四氟化矽、六氟矽酸、六氟矽酸盐、氟硼酸、氟硼酸盐之1种或2种以上的化合物。
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地址 |
日本 |