发明名称 透明导电膜用蚀刻液组成物
摘要 明之课题系提供一种不会对电极材料等所使用之铜及/或铜合金造成损伤又能够蚀刻结晶质ITO膜之透明导电膜用蚀刻液组成物。 本发明之解决手段系一种由包括1~10重量%的氟化合物之水溶液所构成之结晶质透明导电膜用蚀刻液组成物。
申请公布号 TWI534248 申请公布日期 2016.05.21
申请号 TW101112809 申请日期 2012.04.11
申请人 关东化学股份有限公司 发明人 山口隆雄;石川典夫
分类号 C09K13/08(2006.01);H01L21/306(2006.01) 主分类号 C09K13/08(2006.01)
代理机构 代理人 庄志强
主权项 一种结晶质透明导电膜用蚀刻液组成物,其系由含有1~10重量%的氟化合物之水溶液所构成,前述氟化合物系含有选自氟化氢、氟化铵、氟化钠、氟化钾、氟化氢铵、氟化氢钠、四氟化矽、六氟矽酸、六氟矽酸盐、氟硼酸、氟硼酸盐之1种或2种以上的化合物。
地址 日本