| 发明名称 |
Verfahren zum Abscheiden hochschmelzender Kontaktmetallschichten bei niedrigen Temperaturen |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
DE1900119(A1) |
申请公布日期 |
1970.08.13 |
| 申请号 |
DE19691900119 |
申请日期 |
1969.01.02 |
| 申请人 |
SIEMENS AG |
发明人 |
SIRTL,DIPL.-CHEM.DR.ERHARD |
| 分类号 |
C23C16/14;C23C16/02;C23C16/06 |
主分类号 |
C23C16/14 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
