发明名称 Process for producing a photosensitive layer on a support.
摘要 Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer strahlungsempfindlichen Schicht auf einem Schichtträger beschrieben, bei dem man eine Lösung eines strahlungsempfindlichen Gemischs in einem organischen Lösemittel oder Lösemittelgemisch, das mindestens zum Teil aus 3-Methoxy-butylacetat besteht, durch elektrostatische Sprühbeschichtung aufbringt und trocknet. Das Verfahren liefert gleichmäßig verlaufende Schichten, die unterhalb 100 °C getrocknet werden können.
申请公布号 EP0206261(A2) 申请公布日期 1986.12.30
申请号 EP19860108378 申请日期 1986.06.19
申请人 HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 HULTZSCH, GUNTHER, DR. DIPL.-CHEM.
分类号 B05D1/04;G03C1/00;G03C1/74;G03F7/004;G03F7/016;G03F7/022;G03F7/16;G03G5/05;H05K3/00 主分类号 B05D1/04
代理机构 代理人
主权项
地址