| 主权项 |
1.一种利用光以侦测纱线喷节数之装置,其主要装置系包括:至少两光发射器与光接收器;一前置处理装置,其系接收该光接收器之讯号;以及一处理器,其系接收该前置处理装置之资料;其中,该至少两光发射器与光接收器系设置为不同角度,使用该光发射器所发射之光源照射一纱线,以该光接收器接收讯号,再透过该前置处理装置与该处理器,以将利用双视角之方式侦测纱线外观粗细之相对变化程度之结果运算出。2.如申请专利范围第1项所述之利用光以侦测纱线喷节数之装置,其中该光发射器系可为一发光元件。3.如申请专利范围第1项所述之利用光以侦测纱线喷节数之装置,其中该前置处理装置其系将信号放大。4.如申请专利范围第1项所述之利用光以侦测纱线喷节数之装置,其中该前置处理装置其系将该讯号进行杂讯处理。5.如申请专利范围第1项所述之利用光以侦测纱线喷节数之装置,其中该前置处理装置其系将该讯号做一类比与数位之转换。6.如申请专利范围第1项所述之利用光以侦测纱线喷节数之装置,其中该处理器其系为一中央处理单元(CPU)。7.如申请专利范围第1项所述之利用光以侦测纱线喷节数之装置,其中该处理器其系为一数位讯号处理器(DSP)。8.如申请专利范围第1项所述之利用光以侦测纱线喷节数之装置,其中该处理器其系利用一软体做喷节数分析与输出。9.如申请专利范围第8项所述之利用光以侦测纱线喷节数之装置,其中该软体系包含一喷节数时域分析。10.如申请专利范围第8项所述之利用光以侦测纱线喷节数之装置,其中该软体系包含一喷节数频域分析。图式简单说明:第一图:其系为本创作之一较佳实施例之方块图;第二A图:其系为本创作之一较佳实施例之第一光侦测器之示意图;第二B图:其系为本创作之一较佳实施例之第二光侦测器之示意图;第二C图:其系为本创作之一较佳实施例之光侦测器之示意图;第三图:其系为本创作之一较佳实施例之实施流程图;及第四图:其系为本创作之一较佳实施例之双视角纱线喷节侦测应用时序图。 |
