发明名称 研磨垫
摘要 本发明之目的系提供一种研磨时之研磨颗粒与研磨屑不易积存于沟中,即使长时间连续使用研磨速度亦不易降低之研磨垫。本发明之研磨垫,系具有含微细气泡之聚胺甲酸乙酯树脂发泡体构成之研磨层,且该研磨层之表面形成有凹凸构造者,其特征在于,前述聚胺甲酸乙酯树脂发泡体,系含有多元醇及异氰酸盐之异氰酸盐基末端预聚物与链延长剂之反应硬化体,且含有燃烧残留量系大于等于8重量%之矽系界面活性剂者。
申请公布号 TW200736373 申请公布日期 2007.10.01
申请号 TW096100913 申请日期 2007.01.10
申请人 东洋橡胶工业股份有限公司 发明人 福田武司;广濑纯司;堂浦真人
分类号 C09K3/14(2006.01);C08G18/48(2006.01);C08G18/65(2006.01);B24D3/32(2006.01);H01L21/304(2006.01) 主分类号 C09K3/14(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 日本
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