发明名称 SPUTTERING TARGET OF SINTERED SB-TE-BASED ALLOY
摘要 Sb 함유량이 10 ∼ 60 at%, Te 함유량이 20 ∼ 60 at%, 잔부가 Ag, In, Ge 에서 선택한 1 종 이상의 원소 및 불가피적 불순물로 이루어지는 스퍼터링 타겟으로서, 산화물의 평균 입경이 0.5 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 Sb-Te 기 합금 소결체 스퍼터링 타겟. Sb-Te 기 합금 소결체 스퍼터링 타겟 조직의 개선을 도모하고, 스퍼터링시에 아킹의 발생을 방지함과 함께, 스퍼터링막의 열안정성을 향상시키는 것을 목적으로 한다.
申请公布号 KR20160078478(A) 申请公布日期 2016.07.04
申请号 KR20167014355 申请日期 2015.02.20
申请人 JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION 发明人 KOIDO YOSHIMASA
分类号 C23C14/34;C22C1/04;C22C12/00;C22C28/00;C23C14/06 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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