平台装置及涂布处理装置

摘要

本发明的课题是在于提供一种吸气压力变动小的平台装置、及具备此平台装置的涂布处理装置。光阻剂涂布装置23a具备：具有用以浮上搬送基板G的平台200之平台装置12；在平台200上将基板G搬送于X方向之基板搬送机构13；及在平台200上于浮上搬送的基板G表面供给光阻剂液之光阻剂供给喷嘴14。平台200是由小平台201a～203a，201b～203b所构成，在小平台202a．202b中，以基板G的X方向前端不会同时覆盖所定数的吸气口16b，且基板G的X方向后端不会同时使所定数的吸气口16b大气开放之方式，在对Y方向仅偏移角度θ的方向以所定的间隔来设置气体喷射口16a及吸气口16b。