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发明名称
在半导体模组中用于散热的方法及装置
摘要
本发明提供一种在一半导体晶片中用于散热之结构及方法。于一散热片(通常为矽)之一正面上形成一介电材料(例如,聚醯亚胺)之一第一层。经由此第一层形成复数个开口;利用金属(通常为铜)填充该等开口,藉此形成延伸穿过该第一层的金属螺丝柱。于该装置晶片之背面上形成金属之一第二层。随后,在一黏接制程中黏接该第一层与该第二层,藉此形成一黏接层,其中该等金属螺丝柱与该第二层接触。因此,该黏接层提供一自该晶片至该散热片之热传导路径。
申请公布号
TW200631136
申请公布日期
2006.09.01
申请号
TW095100484
申请日期
2006.01.05
申请人
万国商业机器公司
发明人
H 伯哈德 波吉
分类号
H01L21/98;H01L25/04;H01L23/34;H01L23/538
主分类号
H01L21/98
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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