| 发明名称 | 基板载置台、基板处理装置和基板载置台的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种可以防止起因于形成在基板载置台上的凸部本身的蚀刻不匀等处理不匀的基板载置台及其制造方法。在基板处理装置中载置基板的基板载置台具有：载置台主体；从载置台主体的基板载置侧的基准面突出而形成的多个凸部；和围着基准面，以在基板被载置时接触于基板的周缘部的方式，比上述基准面突出而形成的周缘台部，基准面和周缘台部的顶面为表面粗糙度Ra(算术平均粗糙度)1.5μm以下的平滑面，凸部的顶面为表面粗糙度Ry(最大高度)8μm以上的粗糙面。 | ||
| 申请公布号 | CN1881555A | 申请公布日期 | 2006.12.20 |
| 申请号 | CN200610092303.6 | 申请日期 | 2006.06.16 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 林圣;里吉务 |
| 分类号 | H01L21/683(2006.01);H01L21/3065(2006.01);H01L21/205(2006.01);C23F4/00(2006.01);C23C16/458(2006.01);C23C14/50(2006.01) | 主分类号 | H01L21/683(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种基板载置台，用于在基板处理装置中载置基板，其特征在于，具有：载置台主体；从所述载置台主体的基板载置侧的基准面突出而形成的多个凸部；和围着所述基准面，以在基板被载置时接触于基板的周缘部的方式，比所述基准面突出而形成的周缘台部，所述凸部的顶面为粗糙面，所述周缘台部的顶面为平滑面。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||