发明名称 不均匀检查装置及不均匀检查方法
摘要 本发明提供一种不均匀检查装置及不均匀检查方法。在该装置(1)中,由光照射部(3)以规定的入射角对基板(9)上的膜(92)照射光线,且在来自光照射部的光线中由膜反射的特定波长的干涉光被摄像部(41)接收,取得表示膜的原始图像。在存储部(6)中,存储有表示灵敏度与特定波长的干涉光的强度的关系的灵敏度信息(61),通过参照灵敏度信息及原始图像的各像素的像素值对灵敏度依赖于膜厚而变化的影响进行修正的同时,将从原始图像被导出的图像中的规定的空间频率范围的振幅程度作为膜厚不均匀而进行检测,其中,上述灵敏度为特定波长的干涉光的强度变动相对膜厚变动的比率。由此,能够高精度地检查形成在基板上的膜的膜厚不均匀。
申请公布号 CN1904547A 申请公布日期 2007.01.31
申请号 CN200610107520.8 申请日期 2006.07.20
申请人 大日本网目版制造株式会社 发明人 谷口和隆;吉原一博;上田邦夫
分类号 G01B11/06(2006.01) 主分类号 G01B11/06(2006.01)
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人 徐恕
主权项 1.一种不均匀检查装置,检查形成在基板上的膜的膜厚不均匀,其特征在于,具有:保持部,其对主面上形成有光透过性膜的基板进行保持;光照射部,其以规定的入射角对上述膜照射光线;摄像部,其接收来自上述光照射部的光线中由上述膜反射的特定波长的干涉光,从而取得上述膜的原始图像;不均匀检测部,其对于灵敏度依赖于上述膜厚而变化的影响进行修正的同时,将上述原始图像或者从上述原始图像导出的图像中的规定的空间频率范围的振幅程度作为膜厚不均匀而检测出,其中,上述灵敏度为上述特定波长的干涉光的强度变动相对于膜厚变动的比率。
地址 日本京都府京都市