发明名称 在石英圆管内或外壁镀(类)金刚石薄膜的方法及装置
摘要 本发明提供了在石英圆管内外壁镀金刚石或类金刚石薄膜的方法及装置。本方法是先利用微波激励工作气体放电在两个同轴放置的石英圆管之间产生圆筒状的等离子体,再利用等离子体化学气相沉积技术在内石英管的外壁或外石英管的内壁镀金刚石或类金刚石薄膜,所镀的保护膜致密、均匀,附着强度好。本装置包括微波源(1)、微波匹配(2)、波导耦合等离子体反应器(3)和真空系统,所述波导耦合等离子体反应器的结构是:其两端各有法兰和进气、抽气通道;其中部设有金属水冷套(7)和内外石英管,内石英管(11)中间设有铜管(15);两根石英管之间的空腔为真空室(12)。本装置可以在不同尺寸规格的石英管壁上镀膜。
申请公布号 CN101037768A 申请公布日期 2007.09.19
申请号 CN200710051833.0 申请日期 2007.04.10
申请人 武汉工程大学 发明人 马志斌;汪建华;万军;何艾华;张磊
分类号 C23C16/513(2006.01);C23C16/27(2006.01);C23C16/52(2006.01);C23C16/448(2006.01) 主分类号 C23C16/513(2006.01)
代理机构 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 代理人 王守仁
主权项 1.一种在石英圆管内或者外壁镀金刚石或类金刚石薄膜的方法,其特征是采用等离子体化学气相沉积方法,即首先利用微波激励工作气体放电在两个同轴放置的石英圆管之间产生圆筒状的等离子体,再利用等离子体化学气相沉积方法在内石英管的外壁或外石英管的内壁沉积金刚石或类金刚石薄膜;该方法包括以下步骤:a.在真空室(12)中通入工作气体,利用微波激励工作气体放电,使之产生等离子体,真空室的工作气压为1~6kPa;b.需要在内石英管(11)的外壁镀膜时,首先利用粒径为0.1~2μm的金刚石微粉对内石英管的外壁进行均匀的打磨处理,外石英管(10)的内壁保持光滑,再通过控制内石英管中的铜管(15)的温度使内石英管壁的温度在400~800℃,外石英管外的金属水冷套(7)通入冷却水;c.需要在外石英管(10)的内壁镀膜时,首先利用粒径为0.1~2μm的金刚石微粉对外石英管的内壁进行均匀的打磨处理,内石英管(11)的外壁保持光滑,在铜管(15)中通入冷却水,而外石英管外的金属水冷套(7)中不通入冷却水,使外石英管壁的温度在400~800℃。
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