薄膜电晶体阵列基板画素架构及其形成方法

摘要

一种能消除在微影制程中因承载台之凸起所造成不均匀曝光而产生的不良图案并缩短曝光时间之薄膜电晶体阵列基板画素及其形成方法。其在一感光树脂层下方形成一遮蔽层以遮蔽该画素的部分区域，以减轻微影制程之光线照射到该承载台之凸起的影响，此外，该遮蔽层系由高反射率之多层膜反射层或金属所构成，该光线经该遮蔽层反射后对该感光树脂层再次进行曝光，因而减少微影制程曝光时所需的时间。