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发明名称 Verfahren zur Bestimmung der Dotierungskonzentration von Halbleitern mittels Kapazitaetsmessung
摘要
申请公布号 DE1904597(A1) 申请公布日期 1970.08.27
申请号 DE19691904597 申请日期 1969.01.30
申请人 SIEMENS AG 发明人 STEGGEWENTZ,DIPL.-PHYS.HERMANN
分类号 G01R31/26 主分类号 G01R31/26
代理机构 代理人
主权项
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