发明名称 增加介电层黏着性的方法与内连线制程
摘要 一种增加介电层黏着性的方法,此方法为先于基底上形成介电层。接着,对介电层进行一电浆表面处理,其中电浆表面处理所使用之气体例如是氦气或氢气。之后,再于介电层上形成一层顶盖层。
申请公布号 TW200737343 申请公布日期 2007.10.01
申请号 TW095109414 申请日期 2006.03.20
申请人 联华电子股份有限公司 发明人 赖国智;陈美玲;陈哲明
分类号 H01L21/31(2006.01);H01L21/768(2006.01) 主分类号 H01L21/31(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号