发明名称 | 增加介电层黏着性的方法与内连线制程 | ||
摘要 | 一种增加介电层黏着性的方法,此方法为先于基底上形成介电层。接着,对介电层进行一电浆表面处理,其中电浆表面处理所使用之气体例如是氦气或氢气。之后,再于介电层上形成一层顶盖层。 | ||
申请公布号 | TW200737343 | 申请公布日期 | 2007.10.01 |
申请号 | TW095109414 | 申请日期 | 2006.03.20 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 赖国智;陈美玲;陈哲明 |
分类号 | H01L21/31(2006.01);H01L21/768(2006.01) | 主分类号 | H01L21/31(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号 |