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发明名称	Template for Nano Imprint Lithography Process and Method of Manufacturing Semiconductor Device Using the Same
摘要
申请公布号	KR100876805(B1)	申请公布日期	2009.01.09
申请号	KR20070046692	申请日期	2007.05.14
申请人		发明人
分类号	H01L21/027	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人
主权项
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