| 发明名称 |
CONTINUOUS VACUUM DEPOSITION DEVICE AND SUBSTRATE TREATED WITH (SILICA OXIDE)X VACUUM DEPOSITION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH07316789(A) |
申请公布日期 |
1995.12.05 |
| 申请号 |
JP19940108046 |
申请日期 |
1994.05.23 |
| 申请人 |
MITSUBISHI HEAVY IND LTD |
发明人 |
TAGUCHI TOSHIO;HOSHI TOSHINOSUKE;OKITA HAJIME |
| 分类号 |
C23C14/10;C23C14/24;C23C14/56;(IPC1-7):C23C14/24 |
主分类号 |
C23C14/10 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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