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发明名称 Method of etching and/or leveling the surface of a laminated semiconductor substrate
摘要
申请公布号 EP0494745(B1) 申请公布日期 1999.11.03
申请号 EP19920300080 申请日期 1992.01.06
申请人 NEC CORPORATION 发明人 SATO, FUMIHIDE
分类号 H01L21/3065;H01L21/302;H01L21/3105;H01L21/311;H01L21/3205;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/768;H01J37/32 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
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