| 发明名称 | 图案形成方法以及灰阶掩模的制造方法 | ||
| 摘要 | 一种图案形成方法，具有利用采用了光刻法的多个图案形成工序，在同一基板上形成图案的工序，其中，至少具有：形成描绘对位所使用的对准标记的工序；和利用所述对准标记进行对位来描绘图案的工序，所述对准标记由遮光部以及透光部构成，在描绘所述图案的工序之前，除去在最上层具备反射防止膜的所述对准标记的遮光部的所述反射防止膜。 | ||
| 申请公布号 | CN101038445A | 申请公布日期 | 2007.09.19 |
| 申请号 | CN200710088511.3 | 申请日期 | 2007.03.14 |
| 申请人 | HOYA株式会社 | 发明人 | 佐野道明;元村秀峰 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);G03F1/14(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李贵亮 |
| 主权项 | 1、一种图案形成方法，具有利用采用了光刻法的多个图案形成工序，在同一基板上形成图案的工序，其特征在于，至少具有：形成描绘对位所使用的对准标记的对准标记形成工序；和利用所述对准标记进行对位来描绘图案的图案描绘工序，所述对准标记由遮光部以及透光部构成，并且，还具有在所述图案描绘工序之前，除去在最上层具备反射防止膜的所述对准标记的遮光部的所述反射防止膜的反射防止膜除去工序。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||