发明名称 PROCEDE ET DISPOSITIF POUR L'ALIMENTATION, EN GAZ DE TRAITEMENT, D'UN REACTEUR SITUE DANS UNE ZONE SOUMISE A DES CHAMPS ELECTRIQUES ET/OU ELECTROMAGNETIQUES INTENSES
摘要 <P>Le dispositif selon l'invention sert à alimenter, en gaz de traitement, un implanteur ionique 1 isolé de son environnement par une enceinte électriquement conductrice 3 reliée à la terre. Ces gaz sont fournis par des capacités intermédiaires C1 , C2 disposées à demeure à l'intérieur de l'enceinte 3 et remplies de façon périodique à partir de sources de gaz 10, 11 disposées à l'extérieur, grâce à des conduits 14, 14' au moins en partie isolants qui traversent l'enceinte 3. Chaque phase de remplissage des capacités C1 , C2 , qui s'effectue pendant les périodes d'interruption de l'implanteur 1, est suivie d'une phase d'évacuation des gaz dans lesdits conduits 14, 14'.</P><P>L'invention permet d'éviter les problèmes relatifs au remplacement des bouteilles de gaz disposées à l'intérieur de l'enceinte dans les installations classiques.</P>
申请公布号 FR2633143(A1) 申请公布日期 1989.12.22
申请号 FR19880008290 申请日期 1988.06.21
申请人 EFEREL SA 发明人 PATRICK GENOU
分类号 H01J37/30;H01J37/317;H01J37/32 主分类号 H01J37/30
代理机构 代理人
主权项
地址