| 发明名称 |
Method of processing semiconductor substrate |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0841689(A3) |
申请公布日期 |
1999.11.17 |
| 申请号 |
EP19970203445 |
申请日期 |
1997.11.06 |
| 申请人 |
ASM JAPAN K.K. |
发明人 |
SHIMIZU, AKIRA;NAMBA, KUNITOSHI |
| 分类号 |
H01L21/304;H01L21/00;H01L21/02;H01L21/306;(IPC1-7):H01L21/00 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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