| 发明名称 |
Verfahren zur Benutzung von Wasserstoff- und Sauerstoffgas in Sputterabscheidung von aluminiumhaltigen Filmen und danach hergestellte aluminiumhaltige Filme |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE69837409(D1) |
申请公布日期 |
2007.05.03 |
| 申请号 |
DE19986037409 |
申请日期 |
1998.07.15 |
| 申请人 |
MICRON TECHNOLOGY INC. |
发明人 |
RAINA, KANWAL K.;WELLS, DAVID H. |
| 分类号 |
C23C2/00;H01L21/203;C23C14/00;C23C14/14;C23C14/18;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/3205;H01L29/45;H01L29/49 |
主分类号 |
C23C2/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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