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发明名称
带研磨方法及装置
摘要
【课题】提供一种能高精度地实施基板表面凸起部研磨加工之带研磨方法及装置。【解决手段】在此种带研磨方法中,使带研磨单元朝向基板表面正常顶面(21)及凸起部(22)移动,依据因为头销(10)移动及头销(10)所承受外力所检出之基板表面正常顶面(21)及凸起部顶点(25)之Z座标来求出凸起部(22)之高度,依据求出之凸起部(22)高度,使用研磨带来加工凸起部(22)。
申请公布号
TW200732086
申请公布日期
2007.09.01
申请号
TW095136856
申请日期
2006.10.04
申请人
NTN股份有限公司
发明人
山崎静;矢田雄司
分类号
B24B21/00(2006.01);B24B49/00(2006.01)
主分类号
B24B21/00(2006.01)
代理机构
代理人
洪澄文
主权项
地址
日本
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