曝光装置及元件制造方法

摘要

曝光装置(EX)具备投影光学系统(PL)，其系具有第1视野区域(FA1)及异于第1视野区域(FA1)之第2视野区域(FA2)，并根据来自位于第1视野区域(FA1)内之图案的曝光用光(EL)，将图案之像形成于第1像场区域(AR1)，且根据来自位于第2视野区域(FA2)内之图案的曝光用光(EL)，将图案之像形成于第2像场区域(AR2)；以形成于第1像场区域(AR1)之图案之像使第1基板(P1)曝光，以形成于第2像场区域(AR2)之图案之像使与第1基板(P1)相异之第2基板(P2)曝光。