| 主权项 |
1. 一种制备下式(I)氢化可体松之方法:其特征在于:任一式(II)卤醇:(其中X系氯,溴或碘原子)于高级醇或多元醇存在下进行重排反应,俾在用酸处理后得到式(III)产物:其3-氧基官能选择性地被如下式之硫醇或二硫醇作用而保护,HO-(CH@ss2)n-SH或HS-(CH@ss2)n-SH(其中n等于2或3)俾得到式(IV)化合物:其中K系式之3-氧基保护基,其中n系如先前定义,或一如先前定义之式(II)化合物被先前定义之3-氧基官能选择性堵剂处理,俾得到式(V)化合物:其中X及K如先前定义,其于高级醇或多元醇存在下进行重排反应,俾在受酸处理后得到如先前定义之式(IV)化合物,然后该式(IV)化合物于锌及路以士酸存在下以三卤醋酸酯(如下式)处理Hal@ss3 C-CO@ss2 R其中Hal系氯或溴原子,而R系C@ss1-C@ss6烷基,C@ss7-C@ss1@ss5芳烷基,或矽烷化残余物,俾得到式(VI)化合物:其中K,Hal及R如先前定义,其于硷性介质中以下式酚处理:其中R@ssa及R@ssb系相同或不同,而为氢原子,羟基,C@ss1-C@ss4烷基或烷氧基,俾得到式(VII)化合物:其中K,R,R@ssa及R@ssb如先前定义,其受到氢化铝或硷金属硼氢化物之作用,俾得到式(VIII)化合物:其中K,R@ssa及R@ssb如先前定义,其之3-氧基官能被去保护系在硷存在由下碘之作用完成,或于氧化剂存在下由催化量之碘的作用完成,俾得到式(IX)化合物:其中R@ssa及R@ssb如先前定义,其以选自一种过氧酸及过氧化氢之环氧化剂处理,俾得到式(X)化合物:其中R@ssa及R@ssb如先前定义,其于酸介质中水解,俾得到期望之式(I)化合物。2. 如申请专利范围第1项之方法,其特征在于式(II)卤醇(其中X如申请专利范围第1项中定义)于醇存在下进行重排反应,俾以酸处理后,得到式(III)化合物:其3-氧基官能选择性地被如下式之硫醇或二硫醇作用而保护HO-(CH@ss2)n-SH或HS-(CH@ss2)n-SH其中n如申请专利范围第1项中定义,俾得到式(IV)化合物:其中K如申请专利范围第1项中定义,其以式Hal@ss3 C-CO@ss2 R剂处理。3. 如申请专利范围第1项之方法,其特征在于:如申请专利范围第1项中定义之式(II)化合物系受到如申请专利范围第1项中定义之3-氧基官能选择性保护剂之处理,俾得到式(V)化合物:其中X及K如申请专利范围第1项中定义,其于醇存在下进行重排反应,俾以酸处理后得到如申请专利范围第1项中定义之式(IV)化合物,然后以下式试剂@qc Hal@ss3 C-CO@ss2 R处理该式(IV)化合物。4. 如申请专利范围第1至3项中任一项之方法,其特征在于式(II)化合物中,X系溴原子。5. 如申请专利范围第1至3项中任一项之方法,其特征在于卤醇之重排系于过量乙二醇存在下完成。6. 如申请专利范围第1至3项中任一项之方法,其特征在X系溴原子,且卤醇之重排系于过量乙二醇存在下完成。7. 如申请专利范围第1至3项中任一项之方法,其特征在于重排系于沸点低于100℃之共溶剂存在及回流此共溶剂下完成。8. 如申请专利范围第6项之方法,其特征在于重排系于沸点低于100℃之共溶剂存在及回流此共溶剂下完成。9. 如申请专利范围第1至3项中任一项之方法,其特征在于重排系于共溶剂为醋酸乙酯存在下完成。10. 如申请专利范围第6项之方法,其特征在于重排系于共溶剂为醋酸乙酯存在及回流此共溶剂下完成。11. 如申请专利范围第1至3项中任一项之方法,其特征在于3-氧基官能之选择性封堵系于催化量之浓盐酸或溴酸或醚化三氟化硼存在下完成。12. 如申请专利范围第1或3项之方法,其特征在于3-氧基官能之封堵及后之卤醇的重排系于不须分离式(V)中间体下完成。13. 如申请专利范围第1至3项中任一项之方法,其特征在于三卤醋酸酯系甲基或乙基三氯醋酸酯。14. 如申请专利范围第1至3项中任一项之方法,其特征在于路以士酸系四氯化钛。15. 如申请专利范围第1至3项中任一项之方法,其特征在于三卤醋酸酯系甲基或乙基三氯醋酸酯,且路以士酸系四氯化钛。16. 如申请专利范围第1至3项中任一项之方法,其特征在于式 酚中,R@ssa及R@ssb系氢原子,羟基或甲基。17.如申请专利范围第1至3项中任一项之方法,其特征在于环氧化剂系过氧酸,且水解剂系水性矿酸。18.一种式(F)化合物:其中K系式氧基保护基,其中n等于2或3且尤其是等于2,且L系氧基,11位置之虚线系一键,而X系氢原子或L系在位置之羟基,11位置之虚线并非一键,而X系氯,溴或碘原子,且尤其是溴原子。19. 一种式(G)化合物:其中K系式氧基保护基,其中n等于2或3且尤其是等于2,而M系氯或溴原子且尤其是氯原子,或基,其中R@ssa及R@ssb如申请专利范围第1项中定义且尤其系氢原子,羟基或甲基,且R如申请专利范围第1项中定义者而尤其是甲基或乙基。20. 一种式(J)化合物:其中K'系氧原子或K基,该K基为或尤其是氧基保护基,其中n等于2或3,且尤其是等于2,17位置之虚线系一键,R@ssa及R@ssb如申请专利范围第1项中定义且尤其系氢原子,羟基或甲基,或K'系氧原子,17位置之 |
